東京電子有限公司

      ?東京電子有限公司是全球最大的半導體制造設備制造商之一,總部位于日本東京都港區赤坂。該公司開發、制造和銷售半導體制造設備和平板顯示器制造設備。我們在該領域的市場占有率日本第一、世界第三。[3] 是國內半導體相關廠商中市值和營業利潤第一的企業。它是 TSE Prime 上唯一一家被納入TOPIX Core30 的半導體行業公司。

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      概述
      在半導體制造設備領域與美國應用材料公司、泛林集團、荷蘭ASML等公司競爭。2022年,這家公司因索尼、豐田等八家大公司投資成立的Rapidus ,以及全球最大半導體制造商臺灣臺積電在熊本建設工廠而再次受到關注。原本該公司的大部分銷售額都在海外,但隨著日本半導體生產轉向國產化,未來國內銷售額有望增加。[四]
      半導體制造設備是日本的強項領域之一,日本制造的機械被應用于世界各地。尤其是東京電子(TEL)開發的涂布機/顯影機,全球市場占有率高達90%(EUV曝光接近100%)。由于是一家對全球半導體趨勢具有重大影響力的公司,美國拜登政府正在強調日本、荷蘭和美國之間半導體聯盟的重要性。荷蘭ASML和日本東京電子正被美國拜登政府強迫在針對中國的監管方面進行合作。[五]
      該公司不僅以半導體聞名,而且以平板顯示器聞名。它擁有噴墨印刷技術,這是下一代OLED量產方法。
      在行業和股票市場上,常被稱為TEL或East Elec。
      主要產品
      半導體制造設備
      涂布機/顯影機 - 在制造半導體時的光刻工藝中涂布和顯影光敏劑的設備。
      蝕刻設備
      等離子蝕刻設備
      氣體化學蝕刻設備
      薄膜成型設備
      熱處理成膜設備 -制造晶體管絕緣膜的制造設備。在半導體制造中,為了提高晶體管的性能,需要在短時間內進行高溫熱處理。
      原子層沉積設備
      化學氣相沉積設備
      物理氣相沉積設備
      單晶圓薄膜沉積設備
      垂直擴散/LP-CVD/ALD設備
      SiC外延薄膜沉積設備
      清潔設備——在半導體制造過程中用于清潔污垢、灰塵和其他雜質的設備。
      單片晶圓清洗設備
      自動濕站
      批量噴淋清洗設備
      低溫氣溶膠單晶圓清洗設備
      洗地機清洗設備
      測驗設備
      晶圓探針臺
      多電池測試系統
      晶圓鍵合/解鍵合設備
      晶圓切邊設備
      氣體團簇離子束裝置
      平板顯示器制造設備
      FPD蝕刻/灰化設備
      歷史
      1963 年11 月- 東京放送株式會社(TBS,現TBS Holdings )投資成立東京電子研究所株式會社。
      1968 年2 月-與美國 Thermco Corporation 合資成立Tel Thermco Ltd.(后來的Tokyo Electron Tohoku Ltd. )。
      1976 年6 月- Tel Thermco 開發出世界上第一臺高壓氧化劑。
      1978 年10 月- 公司名稱從 Tokyo Electron Laboratories Ltd. 更改為現在的名稱Tokyo Electron。
      1980年6月- 在東京證券交易所第二部上市。
      1984年3月- 晉升為東京證券交易所第一部。
      1990年8月- 成立Tokyo Electron FE Co., Ltd.,全面進軍液晶顯示器(LCD)制造設備(FPD制造設備)。
      1990 年 10 月 - Tokyo Electron Device開始運營。
      1994年8月- 總公司遷至赤坂TBS放送中心。
      1999 年10 月- 東京證券交易所第一部進行行業變更(從“商業”到“電氣設備”)。
      2000年8月- 每單位股份數量由1,000股變更為100股。
      2003 年3 月- 東京電子器件在東京證券交易所第二部上市。
      2006 年4 月- 將 Tokyo Electron AT Ltd. 拆分為三個公司(Tokyo Electron AT Ltd.、Tokyo Electron Tohoku Ltd. 和 Tokyo Electron TS Ltd.)。
      2008年2月- 與夏普合資成立東京電子光伏有限公司。
      2008年2月18日- 總公司搬遷至赤坂商務大廈
      2012年5月-收購NEXX Systems (美國)并成立TEL NEXX, Inc.
      2012 年 11 月 - 東京電子光伏有限公司解散。
      2013 年9 月 24 日- 與全球最大的半導體制造設備制造商應用材料公司達成協議,將于 2014 年下半年合并業務。
      2015年4月27日——宣布因“無法獲得美國司法部批準”而放棄與應用材料公司的業務整合。[6]
      2015 年10 月- 更改了 TEL 標記。
      2018年10月- 出售2012年5月收購的美國子公司TEL NEXX, Inc.的全部股份[7]。
      2019年7月10日- 宣布與美國 BRIDG 建立合作伙伴關系[8]。
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      集團公司
      日本
      Tokyo Electron Technology Solutions Ltd. - 前身為“Tokyo Electron AT”→“Tokyo Electron Yamanashi”。熱處理成膜設備、單片成膜設備、氣體化學蝕刻設備、測試系統、FPD等離子蝕刻/灰化設備的開發和制造。2016年與Tokyo Electron TS合并,2017年與 Tokyo Electron Tohoku合并。
      保坂營業所(山梨縣韭崎市)
      東北辦事處(巖手縣奧州市)
      府中事務所(東京都府中市)
      名古屋衛星(愛知縣名古屋市)
      東京電子九州株式會社 - 半導體制造裝置(涂布機、顯影機、表面處理(清洗)裝置)、FPD制造裝置(FPD涂布機、顯影機)的開發、制造
      合志事務所(熊本縣合志市)
      大津事務所(熊本縣菊池郡大津町)
      Tokyo Electron Miyagi Ltd. - 等離子蝕刻設備的開發和制造
      Tokyo Electron Devices Co., Ltd. - 工業電子產品的設計和開發、半導體電子器件和信息通信設備的銷售和維護
      Tokyo Electron FE Corporation - 設備安裝和維護服務
      Tokyo Electron BP Ltd. - 物流服務、設施管理、工資和福利、辦公室支持
      東京電子代理株式會社 - 保險代理店
      美國
      Tokyo Electron US Holdings, Inc. - 美國總部
      Tokyo Electron America, Inc. - 美國的銷售支持
      TEL Technology Center, America, LLC. - 半導體制造設備的研發
      TEL 風險投資公司
      TEL Epion Inc. -使用氣體團簇離子束( GCIB ) 技術開發和制造工業制造設備
      TEL FSI, Inc. - 表面處理設備的開發、制造和銷售
      歐洲
      Tokyo Electron Europe Limited - 泛歐總部(英國克勞利)
      德國分公司
      意大利分公司
      荷蘭分公司
      愛爾蘭分公司
      法國分公司
      TEL 太陽能服務公司
      TEL Magnetic Solutions Limited - 磁場加工熱設備的開發、制造和銷售
      東京電子以色列有限公司
      亞洲
      東京電子韓國有限公司
      代表取締役會長 堀井義明 代表取締役社長 本徹
      東京電子臺灣有限公司
      代表董事兼總經理 畑正明
      東京電子(上海)有限公司
      代表董事/總經理 陳杰
      東京電子(上海)物流中心有限公司
      代表董事/總經理 陳杰
      東京電子(昆山)有限公司 - FPD制造設備的制造及零部件的維修
      代表董事/總經理 陳杰
      東京電子新加坡私人有限公司
      代表人 伊藤秀樹